Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике
Инженерно-технические науки Бакалавриат Магистратура Специалитет
Характеристики
2022 год • 164 страниц • 4.4 MB
Издательство Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники»
ISBN 978-5-7256-0992-9
Тип издания учеб. пособие
Описание
Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам «Технология интегральных схем», «Проектирование и технология электронной компонентной базы» и «Технологические процессы наноэлектроники».
