Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций

Описание

В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, дальнейшие перспективы развития и применения. Большое внимание уделено используемому технологическому оборудованию и физическим процессам, лежащим в основе каждого метода, а также методам жидкофазной эпитаксии и получению многокомпонентных твердых растворов соединений A III B V . Пособие составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплинам «Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций», «Технологии материалов электронной техники». Предназначено для организации самостоятельной работы студентов очной формы обучения по направлению подготовки 210100 – «Электроника и наноэлектроника», профиль подготовки «Микроэлектроника и твердотельная электроника», а также для аспирантов, научных сотрудников и инженеров-технологов, специализирующихся в области технологии материалов электронной техники.