Обложка отсутствует
12 1
Скачать PDF

Физические основы электронно-ионно-лучевых и плазменных технологий

Физика Аспирантура
Характеристики
172 страниц 11.7 MB
Издательство Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники
ISBN 978-5-86889-891-4
Тип издания учебное пособие для аспирантов направления 11.06.01

Описание

Рассматриваются основные физические процессы взаимодействия ускоренных частиц и плазмы с веществом, принципы работы пучкового и плазменного технологического оборудования, применение электронно-ионно-плазменных технологий в промышленности. Для аспирантов направления подготовки 11.06.01, а также студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся в области физической электроники, ионно-плазменных и лучевых технологий, вакуумной и плазменной электроники, микро- и наноэлектроники, физики твердого тела, материаловедения. Учебное пособие может быть полезным для специалистов и инженеров, сфера деятельности которых касается взаимодействия плазмы и ионных пучков с поверхностью, методов обработки материалов потоками заряженных частиц.

Другие книги категории

Технология наноструктур

Физика Бакалавриат Магистратура Специалитет
116 стр. 1.9 MB
21 1
Особенности разогрева и релаксации горячих электронов в тонкопленочных сверхпроводниковых наноструктурах и 2D полупроводниковых гетероструктурах при поглощении излучения инфракрасного и терагерцового диапазонов