Диод Шоттки на основе GaAs: технология получения и диагностика

Описание

Описаны основные свойства контактов металл/полупроводник, образующих барьер Шоттки. Рассмотрены методы измерений и расчёта характеристик диода Шоттки. Изложены основы технологии формирования контактов металл/полупроводник для Si и GaAs, рассмотрены основные методы формирования контактов. Приведено описание вакуумных методов, в том числе, метода электронно-лучевого испарения. Предложено выполнение практической работы по формированию и исследованию диода Шоттки. Для студентов старших курсов, специализирующихся по направлению 210600 «Нанотехнология», студентов магистратуры и аспирантов, слушающих курсы в области наноэлектроники и ведущих исследования в соответствующей области.